产品概述
无掩膜光刻机是一款高精度、高效能的光刻设备，专为微纳米技术、MEMS、光学元件制造等领域设计。
该设备采用先进的无掩膜光刻技术，支持快速图形变化和高分辨率控制，广泛应用于半导体制造、微电子研发和光学器件生产等高精度需求的领域。
凭借其卓越的加工精度和灵活的操作界面，无掩膜光刻机大大提升了生产效率，满足了小批量和精细化生产的需求。
产品特点
灵活设计：无需掩膜，快速更改图案，适合原型和定制。
高分辨率：实现微米至纳米级精细光刻。
高效流程：减少制程时间，提升生产效率。
多材料兼容：适用于半导体、聚合物等多种材料。
低成本：无掩膜制作成本，适合研发和小批量生产。
广泛应用：用于微电子、MEMS、光学器件等制造领域。
技术参数：
1、工作波长：405nm
2、激光功率
最大功率：300mW
3、分辨率
最小分辨率：0.3μm
4、对准精度
正面：0.1μm(1mm区域内)，侧面：1μm(2.5μm)
5、扫描速度
3-150 mm²/min
6、转盘尺寸
最大8英寸
