产品概述

　　无掩膜光刻机是一款高精度、高效能的光刻设备，专为微纳米技术、MEMS、光学元件制造等领域设计。

　　该设备采用先进的无掩膜光刻技术，支持快速图形变化和高分辨率控制，广泛应用于半导体制造、微电子研发和光学器件生产等高精度需求的领域。

　　凭借其卓越的加工精度和灵活的操作界面，无掩膜光刻机大大提升了生产效率，满足了小批量和精细化生产的需求。

　　产品特点

　　灵活设计：无需掩膜，快速更改图案，适合原型和定制。

　　高分辨率：实现微米至纳米级精细光刻。

　　高效流程：减少制程时间，提升生产效率。

　　多材料兼容：适用于半导体、聚合物等多种材料。

　　低成本：无掩膜制作成本，适合研发和小批量生产。

　　广泛应用：用于微电子、MEMS、光学器件等制造领域。

　　技术参数：

　　1、工作波长：405nm

　　2、激光功率

　　最大功率：300mW

　　3、分辨率

　　最小分辨率：0.3μm

　　4、对准精度

　　正面：0.1μm(1mm区域内)，侧面：1μm(2.5μm)

　　5、扫描速度

　　3-150 mm²/min

　　6、转盘尺寸

　　最大8英寸